Seonglae ChoeXTREME ULTRA VIOLET 극자외선
Circuit그리는 기계
에서 독점적으로 생산 삼성이나 tsmc 가 기기 사용
선폭 - 반도체 가공 가능한 폭
웨이퍼 감광액(photoresist) 바르고 photomask 씌우고 감광액 굳혀서 만듬
euv는 7nm 파장 가능
duv는 192nm 파장 이용
어려웠던게 공기중 흡수되서 기기내부 진공
먼지 절대 없고 대기 밀도 10만분의 1
lcwc로 온도정밀조절해야 부풀어오르는 문제 해결 가능
Reticle 부풀러오를수도
오늘의 반도체 공부 5일차 - 레티클
오늘의 반도체 http://blog.naver.com/semi_blog/221079273484 # 레티클은 Photo 공정에서 사용됨으로 Photo 공정의 이해가 있어야 한다. - 원하는 회로 설계를 유리판 위에 금속 Pattern 으로 만들어 놓은 마스크 혹은 레티클 원판위로 광원을 노출시켜 감광액(PR : Photo resist)이 도포되어 있는 Wafer 에 회로 패턴을 형성하는 과정 삼성반도체 포토공정이야기 여러 번 반복적으로 위치를 바꿀 수 있도록 만든 마스크 - 통상, 설계 도면의 5배 정도 크기로 패턴이 그려진 유리판 .
https://m.blog.naver.com/PostView.nhn?blogId=puninuq&logNo=221079779411&proxyReferer=https:%2F%2Fwww.google.com%2F
그리고 고 사양 CPU와 GPU가 이것으로 만들어집니다
차세대 반도체를 만드는데 꼭 필요한 EUV에 대해 간단히 설명했습니다.앞으로 얼마나 더 공정이 미세화 될지 저도 참 궁금합니다.CPU,GPU,메모리 등 미세 패터닝이 필요한곳에 EUV노광이 사용됩니다.#EUV#반도체#CPU00:00 Imtro00:32 배경설명02:36 EUV 만드...
https://youtu.be/kmFfesriafM
2천억 짜리 반도체 장비 리뷰?! 지금껏 본 적 없는 나노 세계를 보여드립니다
ASML #EUV #반도체공정 *이 영상은 ASML의 지원을 받아 제작하였습니다* 주연의 시각으로 푸는 기술 이야기를 담은 시리즈 [주Q멘터리] 입니다. 어릴 때부터 과학다큐를 좋아해서 이런 시리즈를 꼭 한 번 만들어 보고 싶었어요! 첫 번째 편은 '반도체'에 관한 이야기 입니다...
https://www.youtube.com/watch?v=wH7D8V47etk
